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預期目標：到2026年,，研制模塊化的多場輔助化學機械原子級拋光裝備,，可以集成電,、光、聲,、等離子體等多場,，拋光壓力調(diào)控精度0.1psi，拋光壓力分區(qū)數(shù)量6個,，利用該設備對單晶硅襯底進行拋光,，表面起伏小于10個原子層，滿足先進制程需求,。

（二）高效團簇離子束原子級拋光裝備的研發(fā)及在大徑厚比金剛石光學窗口的加工應用

揭榜任務：面向高功率激光系統(tǒng),、中長波紅外探測器等對原子級表面精度的金剛石窗口需求，突破氣體原子團簇束流中和關鍵技術,，建立原子級超光滑金剛石表面制造方法,，研制超硬金剛石團簇離子束原子級拋光裝備，實現(xiàn)大徑厚比金剛石光學窗口的原子級制造,，并應用驗證,。

預期目標：到2026年，高性能,、低成本的束流中和器自主可控,，具有較高的中和效率，對Ar₁₀₀團簇中和效率>50%,，研制金剛石材料團簇離子束原子級拋光裝備,，建立金剛石光學窗口納米級精度及原子級表面質(zhì)量制造工藝，加工金剛石光學窗口直徑≥75mm,、徑厚比≥100,、表面面形精度PV≤λ/4、表面粗糙度Ra≤1nm,，設備支持Ar/SF₆等多種氣體團簇離子束、束流強度≥100μA,、團簇束斑直徑0.5-10mm可調(diào),、團簇離子能量≥60keV，能夠支撐3英寸級金剛石光學窗口原子級可控制造,。

（三）原子級精度X射線反射鏡

揭榜任務：面向X射線掠入射反射鏡對表面全頻段誤差的極端精度需求,，突破X射線反射鏡原子級精度加工關鍵技術；研發(fā)以等離子體加工和彈性發(fā)射加工為核心技術的原子級精度X射線反射鏡加工工藝,；研制等離子體與彈性發(fā)射加工裝備,，并開發(fā)誤差高效收斂算法；推動自主加工的高精度X射線反射鏡在同步輻射和自由電子激光裝置的應用,。

預期目標：到2026年,，完成400mm尺寸X射線反射鏡加工裝備的研制,，滿足面型精度RMS優(yōu)于2nm，斜率誤差優(yōu)于RMS 0.2μrad,，表面粗糙度RMS優(yōu)于0.1nm,。自主加工的X射線反射鏡在同步輻射和自由電子激光裝置上得到應用。

（四）原子級分散的金屬制劑

揭榜任務：針對傳統(tǒng)植保制劑的藥害風險高,、與其他農(nóng)藥混配難度高,、以及金屬殘留嚴重和橡膠制備使用過量氧化鋅的污染問題，采用原子級分散工藝,，降低金屬的用量,，實現(xiàn)相關領域產(chǎn)品國產(chǎn)化。

預期目標：到2026年,，分別實現(xiàn)三款以上原子級分散金屬制劑/助劑用于植保制劑,、橡膠制備等領域。制劑中金屬的原子級分散率高于95%,；用于植保的殺菌銅制劑銅用量降低80%以上,，施用后銅殘留降低90%以上；完成實驗室驗證與大田實驗,，實驗面積不低于100萬畝,；用于橡膠硫化助劑的金屬鋅用量降低