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Beijing Four Sentences of Heng Qu science and technology Co., Ltd.
北京橫渠四句科技有限公司
揭榜掛帥 | 安徽科技大市場(chǎng)企業(yè)技術(shù)需求合作榜(1)
來(lái)源: | 作者:4SHQ | 發(fā)布時(shí)間: 1092天前 | 7157 次瀏覽 | 分享到:

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為積極開(kāi)展產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān)揭榜掛帥工作,,現(xiàn)發(fā)布第一批技術(shù)需求,,尋求有意愿且有能力承擔(dān)相關(guān)研發(fā)任務(wù)的高校院所及科技型企業(yè)前來(lái)揭榜,,我們將為供需雙方提供精準(zhǔn)對(duì)接服務(wù),。


1

彩色濾光片用染料開(kāi)發(fā)

技術(shù)領(lǐng)域:新型顯示

需求內(nèi)容:平板顯示終端向高色飽和度、高對(duì)比度,、高亮度發(fā)展,,對(duì)顯示材料也提出了更高的要求,,目前彩色濾光片使用的是顏料分散型彩色光刻膠,,有機(jī)顏料顆粒在50nm左右,光在透過(guò)時(shí)會(huì)有光的散射,,一部分光被吸收,透過(guò)率降低,。為了提升透過(guò)率,,用少量染料代替顏料,達(dá)到透過(guò)率提升的目的,,但染料的耐熱性,、耐環(huán)境性能不如顏料,。先需要開(kāi)發(fā)能滿(mǎn)足彩色濾光片使用的染料,技術(shù)需求:1,、透過(guò)率提升5%~10%,;2、耐環(huán)境,、耐紫外光照及耐溶劑△E<3,;3,、耐熱性(230℃,,30min)、耐紫外光照及耐溶劑△E<3,,不可對(duì)其他顏色的彩色光刻膠造成污染(顏色混合),。

擬投入資金:50萬(wàn)

2

感光劑(PAC)開(kāi)發(fā)

技術(shù)領(lǐng)域:新型顯示

需求內(nèi)容:感光劑(PAC)是正性光刻膠配方關(guān)鍵組分,決定正性光刻膠的感光性,、留膜率,、解像度等性能,隨著面板LTPS技術(shù)的發(fā)展,,光刻膠對(duì)于感光劑(PAC)種類(lèi)和性能的要求不斷提高,,為對(duì)應(yīng)客戶(hù)需求需開(kāi)發(fā)滿(mǎn)足性能的感光劑。技術(shù)需求:1,、金屬離子(Na,、Fe,、Zn等)含量符合要求<100ppb;2,、游離單體<1.5%,;3、水含量<1%,;4,、解像度<1.5μm。

擬投入資金:50萬(wàn)

3

面向Micro-display應(yīng)用的

全彩Mirco-LED開(kāi)發(fā)技術(shù)

技術(shù)領(lǐng)域:新型顯示

需求內(nèi)容:Micro-LED被業(yè)界認(rèn)為是最有發(fā)展前景的下一代顯示技術(shù)之一,,其亮度范圍,、壽命、色域都能達(dá)到較高水平,,可以滿(mǎn)足未來(lái)消費(fèi)者對(duì)顯示本身的高性能需求,,然而目前Micro-Led產(chǎn)品的像素尺寸仍停留在100微米左右,無(wú)法實(shí)現(xiàn)近眼顯示設(shè)備對(duì)顯示高分辨率,、高像素密度等方面的性能指標(biāo)要求,。技術(shù)需求:針對(duì)未來(lái)AR/VR近眼顯示應(yīng)用的Micro-Led產(chǎn)品,現(xiàn)公開(kāi)征集面向微型顯示應(yīng)用的全彩Mirco-LED開(kāi)發(fā)技術(shù),。技術(shù)指標(biāo):滿(mǎn)足產(chǎn)品亮度>20000nits,,色域100%DCI-P3色域,壽命>500hrs@20000nits,,刷新度>120Hz,,分辨率FHD,子像素尺寸<3μm,。

擬投入資金:50萬(wàn)元

4

高效率固晶轉(zhuǎn)移技術(shù)

技術(shù)領(lǐng)域:新型顯示

需求內(nèi)容:新型液晶顯示背光源作為當(dāng)前液晶顯示的一種新型背光源,,采用直下式模塊化設(shè)計(jì),通過(guò)巨大數(shù)量的LED芯片進(jìn)行布局,,且全部使用倒裝LED芯片結(jié)構(gòu),,由于倒裝芯片無(wú)需打線(xiàn)實(shí)現(xiàn)無(wú)金線(xiàn)封裝技術(shù),適合超小空間密布的設(shè)計(jì),,因此,,在實(shí)際制作過(guò)程中,由于倒裝晶片尺寸小,,只有100-200um,,焊盤(pán)尺寸為50um左右,如何使晶片的焊盤(pán)能夠準(zhǔn)確地與pcb基板上的焊盤(pán)精準(zhǔn)拼配,,降低晶片轉(zhuǎn)移不良成為亟待解決的問(wèn)題?,F(xiàn)需開(kāi)發(fā)一套固晶轉(zhuǎn)移技術(shù),在提高轉(zhuǎn)移效率同時(shí),,保證轉(zhuǎn)移良率達(dá)到99.99%以上,,固晶精度正負(fù)10um,,一次轉(zhuǎn)移晶片數(shù)大于100pcs。一次轉(zhuǎn)移時(shí)間控制在1秒以?xún)?nèi),。